300 mm monokristallijne dummy siliciumwafel

Monokristallijne siliciumwafels worden gemaakt door een enkel kristal van silicium te laten groeien uit een kiemkristal met behulp van de Czochralski-methode. Bij dit proces wordt een klein kiemkristal in gesmolten silicium gedompeld en er langzaam tijdens het roteren uitgetrokken, waardoor een cilindrische staaf ontstaat. De staaf wordt vervolgens in dunne wafels gesneden met behulp van diamantdraadzagen.

Monokristallijne siliciumwafels zijn uniforme en defectvrije substraten gemaakt van een enkel kristal van silicium. Ze hebben meestal een ronde vorm met een diameter van enkele millimeters tot 450 mm of meer, en een dikte van enkele microns tot enkele honderden microns.

Monokristallijne siliciumwafels bieden uitstekende elektrische eigenschappen, waaronder een hoge dragermobiliteit, lage weerstand en hoge diëlektrische sterkte, waardoor ze ideaal zijn voor hoogwaardige toepassingen. Ze hebben ook een hoge thermische geleidbaarheid en zijn bestand tegen hoge temperaturen, wat cruciaal is voor de betrouwbaarheid van het apparaat.